该厂为8屏幕尺寸晶圆的加工线配套设施的超去离子水软件，一天所产生含硅废水加工处理工学院艺150吨。废水加工处理工学院艺中虽无天价属，但硅浓度高易积灰，且电阻器率需符合18MΩ·cm才华中水回用。本来的加工处理工学院艺不能具备新施行的《光电子制造业水污染破坏物释放量的标准》（GB39731-2020）很释放量最大限度。 废污水成份特别 常见破坏物 ：悬浊液硅（200-300mg/L）、科粒硅（孔径0.1-1μm） 特别规定要求 ：TOC<10μg/L，硼水分含量<5μg/L 饮用水质属性 ：低水的电导率（<50μS/cm）但硅氧化物结构冗杂 清理新工艺方法 创新性使用"梯级膜破乳+电去阳离子"搭配组合工序： 微滤废水处理工艺 ：1μm淘瓷膜截拦大小粒硅，通量保持80LMH 铁离子调换不饱和树脂 ：D201大孔树酯选泽性活性炭吸附硅酸大分子 二次元RO系统 ：独一段收购 率60%，第二步段用高脱硼膜部件 EDI电去阳离子 ：工作电流密度计算2A/m²，持续保持的还原残渣阴离子 紫外线消菌 ：254nmUV太阳光线残留量40mJ/cm² 技术设备短板 开发设计專用阻硅剂（有机化学胺类包覆物），廷缓膜废弃物时间3倍 EDI功能创新发展流道设计制作，硅避开率升级至99.8% 高清在线硅了解仪（侧量依据0.1-500μg/L）推动精准脱贫调整 使用阶段性成果 经再次方测量： 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼含磷量从8μg/L降低0.3μg/L 系统软件回收并率从原40%升高至68% 膜换掉周期公式增加至5年，年启动直接费用降35%